以细微工艺见长的纳米压印技术已趋近实用化

纳米压印技术的原理是，先利用电子束、聚焦离子束等，将Geometry制作在模具上，然后再利用PMMA (Polymethyl methacrylate)将Geometry镀在基板上。最后再利用热压设备，将模具压印在组件基板上的PMMA。

利用纳米压印技术，基本上需要采用不同的模具和蚀刻阻碍层，模具的部分必须先用Focused Ion Beam、E-beam Lithography等等的方式，制作出纳米等级的Geometry与结构，而在蚀刻阻碍层的部分则多是使用热塑性(Thermal Plastic) 的高分子材料，并且在压印设备的设计上，需要能够控制工艺中所有的压力、温度、与位置。将温度加热到超过蚀刻阻碍层的玻璃转换温度，在进行压印后将温度降低而产生固化成型。最后再利用RIE、ICP等等的工艺技术，将Geometry转印到基板上，经过蚀刻之后，就可以完成10纳米的逻辑闸结构。