以细微工艺见长的纳米压印技术已趋近实用化

纳米压印微影术是一种低成本且高生产能力的非传统微影技术，适合于未来微影术的发展与研究。纳米压印微影术的研究发展已经可以达到10纳米以下的特征尺寸，而且可以得到垂直和平滑的侧边及几乎90度的边角。再加上不需要传统的光罩、曝光、显影等等的工艺，所以在成本上可以获得相当好的控制与降低，应用的工艺相当广泛，对于100纳米到10纳米以下的工艺，都能够展现出相当优异的特性。因此在未来，随着纳米压印技术的成熟与更新的应用材料被开发出来之后，相信有相当的优势性可以取代传统光源微影技术能力所不及的应用工艺。